Anforderungen an ölfreie Druckluftsysteme für Halbleiterfabriken
Die Halbleiterfertigung stellt äußerst hohe Anforderungen an die Reinheit der Druckluft; ölhaltige Partikel können die Wafer‑Produktionslinien kontaminieren. Ölfreie Schraubenkompressoren sind aufgrund ihrer vollständig ölfreien Schmierung zum zentralen Luftversorgungssystem sauberer Fertigungshallen geworden. In der Region Nantong müssen derartige Geräte streng nach der Norm ISO 8573‑1, Klasse 0, ausgelegt sein, um einen Ölgehalt von null in der Ausgangsluft zu gewährleisten.
Kritische Schritte der Inbetriebnahme eines Kompressors
- Kalibrierung der Druck-/Temperaturparameter des Luftversorgungs- und Kühlsystems
- Prüfung der Phasenlage des synchronisierenden Zahnrads des Hauptaggregats sowie des Rotorspalts
- Logikprüfung der koordinierten Steuerung von Trocknungsanlage, Filter und Kompressor
- Leckratenprüfung an Reinraumkanälen ≤0.1% /h）
Häufige Störungen und Wartungspunkte
Tritt während des Betriebs eine abnorme Erhöhung der Austrittstemperatur, starke Druckschwankungen oder eine Überschreitung des Taupunkts auf, sind insbesondere folgende Ursachen zu prüfen: Verstopfung des Ansaugfilters, Leistungsabfall des Kühlgebläses, Verschleiß der Präzisionslager sowie Sensordrift im Steuerungssystem. Die Instandsetzung ist ausschließlich in einer Reinraumumgebung durchzuführen; sämtliche Dichtungen und Filterelemente müssen den Anforderungen der jeweiligen Reinheitsklasse entsprechen, um eine Sekundärverschmutzung zu vermeiden.
Lokalisierungsservice unterstützt
In Nantong und den angrenzenden Regionen ist die Verteilung der Halbleiterfertigungslinien besonders dicht; eine schnell reagierende Fähigkeit zur Inbetriebnahme vor Ort sowie zur Wartung und Reparatur ist von entscheidender Bedeutung. Es wird empfohlen, ein regelmäßiges Zustandsüberwachungssystem einzurichten, das mithilfe der Trendanalyse von Schwingungs-, Temperatur- und Stromdaten potenzielle Ausfallrisiken frühzeitig erkennt und so die Kontinuität und Stabilität der Gasversorgung der Produktionslinien gewährleistet.